• 热场发射枪Zr\W(100)
• 加速电压200Kv
• TEM模式：
  • 点分辨率0.24nm
  • 线分辨率0.10nm
  • 信息分辨率0.15nm
  • 放大倍数19×—910K×
  • 样品台最大倾角α=±40,β=±25
• STEM模式:
  • 厂方分辨率0.2nm(本机可达0.14nm）
• EDS:能量分辨率约135eV: 分析元素范围5B-92U

   主要附件：

• 单倾样品杆与双倾样品杆;
• 高速成像相机GatanOrius SC1000B 200 kV; 衍射相机GatanOrius SC200D 200kV;
•  STEM HAADF Detector; In-situ Video plug-in;
• 能谱 EDAX Analyzer (DPP-II) ;
• 功能特色：组合运用TEM模式成像（明场像、暗场像、高分辨像）与衍射选区电子衍射、会聚束电子衍射、纳米束电子衍射），STEM模式高角环形暗场像（HADDF）及EDX能谱点、线、面分析，可对样品形貌、结构、组分等,进行分辨能力允许的表征 ;
• 应用范围: 适用金属、半导体、化合物及纳米材料的显微分析